在进行使用无尘车间内的设备的过程中设备要求不会自己产生灰尘，也不容易附着灰尘。像纸箱，普通抹布这类物品，都是严格禁止出现在车间内的。如果是电子工业方面的净化车间，还要对静电进行严格的控制，所以对与产品接触的材料、工具、包装物、防静电的有要求。还有一个因素就是对于环境的要求，接下来我们详细了解一个环境要求。

微生物含量的控制。控制净化车间环境中的微生物含量仍然是靠良好的空气净化系统设施，其过滤效率可以达到99.9%～99.99%地滤除空气中的细菌和尘埃。出产中净化车间内温度严格控制在18～26℃、相对湿度控制在45%～65%，以破坏有利于细菌的生长条件，加之消毒液的清洁消毒，环境控制作用令人满意。

关于日常消毒液消毒，每天出产结束后，用75%乙醇或2‰新洁尔灭溶液擦拭机台、桌面、门窗、墙壁等，用3%～5%的来苏儿对地面擦拭消毒。每3天出产结束后，用75%乙醇或2‰新洁尔灭溶液对净化车间内所有设施表面及顶棚、照明等表面进行擦拭消毒，3%～5%的来苏儿对地面进行消毒，目的是杀死因出产过程中产生的细菌繁殖体，控制净化车间内微生物含量。

这些措施仅能控制净化车间内空气中的细菌量及杂菌种类，如果霉菌较多，就要先用5%石碳酸全面喷洒室内，然后用甲醛熏蒸才能达到无菌作用，并且只有这样才能杀死细菌、杂菌芽孢。每个出产周期结束，下个周期出产前对有无菌要求的洁净室先进行消毒液消毒，检测洁净室内尘埃粒子数符合规定后，再对净化车间内进行甲醛气体熏蒸，从长期检测的结果来看，这种环境灭菌办法作用很好。

相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体净化车间一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。到目前为止，在半导体净化车间中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的必须达到严格的水准。

很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在净化车间周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。洁净车间的湿度控制由其生产工艺决定，但其精度同时也要看其房间的大小例如计量室、光栅刻线室、精密仪器制造和装配车间等。